商品内容：
書籍絶版 CD-R版のみ
◆ＩＴＯの低温成膜と接着性の向上
◆基板の寸法変化とコントロール
◆ガスバリヤーフィルムの設計と作製
◆低温プロセス用パネル構成材料：コート剤／配向膜／回路接着材料／シール剤
●発刊 2002年 3月
＜執筆企業／大学＞
・千葉大学
・香川大学
・東京工芸大学
・パリ大学
・帝人株式会社
・日東電工株式会社
・出光興産株式会社
・三容真空工業株式会社
・株式会社アルバック
・ソニーケミカル株式会社
・ＪＳＲ株式会社
・ ナトコ株式会社
・ 凸版印刷株式会社
・ 富士通化成株式会社
・産業技術研総合研究所
・ＨＯＹＡ株式会社
・トレック・ジャパン株式会社
・松下電工マシンアンドビジョン株式会社
・東芝リサーチ・コンサルティング株式会社
目 次
第1章 LCDの現状・問題点・将来動向
第２章 プラスチックLCDにおけるフィルム基板の開発技術
第１節 ベースフィルムの特性
第２節 フィルム基板のガスバリヤー技術
第３章 プラスチック基板の成膜技術およびフィルム技術
第１節 低温プロセスによるITO薄膜の形成
１．透明導電材料と薄膜作製法
２．低温プロセスによるITO薄膜作製例と諸特性
第２節 デュアルイオンビームスパッタリング法によるITO薄膜の低温成膜
１．ITO薄膜の低温成膜
２．デュアルイオンビームスッパッタリング装置
３．薄膜物性におけるアシストイオンビーム照射効果
４．Heイオンビーム照射による結晶構造の変化
第３節 ITO透明導電膜の低温成膜と熱処理効果
第４節 レーザビームアシスト成膜法によるITO薄膜の作製
１．レーザアニール法によるITO薄膜の作製
２．レーザビームアシスト真空蒸着法によるITO薄膜の作製
第５節 アモルファス透明導電膜の開発
１．アモルファス透明導電膜の探索
２．Ｉｎ2Ｏ3−ＺｎＯ系アモルファス透明導電膜の検討
３．ＩＺＯ薄膜のエッチング特性
４．アモルファス透明導電膜のデバイスへの応用
第６節 プラスチック基板へのITO成膜
第４章 プラスチックLCDの材料開発および技術動向
第１節 プラスチックLCDにおけるACF（異方導電膜）接続技術
１．AFCとは
２．プラスチックLCD用ACFの課題
３．開発スペック
４．TP７９６の開発
５．TP７９６の特性
６．次期ACF「DP１０２２」の開発状況
７．ソニーケミカルとしてのアプローチ
８．今後の展開
第２節 プラスチックLCD用配向膜材料
１．低温焼成
２．可溶性ポリイミド配向膜
３．プレチルト角特性
４．信頼性
５．塗布性、耐ラビング性等実用特性
第３節 ポリマー構造の形成
この項目は著作権の関係から収録しておりません。 ご了承ください。
第４節 スペーサの開発
１．パネルGAPの均一性
２．スペーサの移動防止
３．コントラストの向上
第５節 透明バリアフィルム
１．バリアフィルム
２．バリアフィルムの作製方法
第６節 バックライト・フロントライトの開発動向
１．バックライト
２．フロントライト
第７節 LCD用フォトマスク
１．フォトマスクの製造方法
２．フォトマスクの種類と使用用途
３．フォトマスクに求められる品質と課題
第８節 低温化高性能オンパネルSi TFTの現状と可能性
１．駆動電流の向上と素子高性能化
２．低電圧化、微細化に対する課題と対策
３．高性能ＴＦＴオンパネル化の現状と可能性
第９節 有機／無機ハイブリッド材料によるプラスチックハードコーティング
１．有機／無機ハイブリッド化による高機能化
２．ＵＶ硬化型有機／無機ハイブリッドハードコート材の特徴
第10節 材料・成膜開発における企業動向および実用化技術
[１] 凸版印刷
１．凸版印刷の現状
1.1 反射防止フィルム
1.2 ホログラム反射フィルム
1.3 包材用バリアフィルム
２．LCD用バリアフィルム
[２] 日東電工 「ハイブリッド部品への道を拓くプラスチック基板」
１．日東電工の現状
1.1 オプティカルフィルムモジュール
1.2 ハイブリッド化への提案
２．プラスチック基板
2.1 性能と特長
2.2 量産化技術
３．今後の展開
[３] 三容真空工業
第11節 静電気制御技術
第12節 LCD生産における大気圧プラズマクリーニングの効果とその応用
第５章 プラスチックLCDの応用技術
第１節 携帯機器実装技術
第２節 プラスチックＬＣＤの応用としてのデジタルペーパー
この項目は著作権の関係から収録しておりません。 ご了承ください。
第３節 ディスプレイデバイス用有機トランジスタの開発
・縦型SITおよびLCD以外のディスプレイを見込んだ有機トランジスタの開発現状と展望
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